热导率，是碳化硅的另一把“高温利器”。较高的热导率意味着它能够迅速将热量传递出去，避免热量积聚导致局部过热。在电子器件散热领域，这一特性尤为关键。随着电子产品向小型化、高性能化发展，芯片发热功率急剧增加，散热问题成为制约其发展的瓶颈。碳化硅制成的散热片或封装材料，能够地将芯片产生的热量散发到周围环境中，保证芯片在适宜的温度下工作，从而提高电子器件的可靠性与使用寿命，让我们手中的智能手机、电脑等设备运行得更加流畅。然而，碳化硅的这些“密码”并非轻易就能完全掌握。其制备过程面临着诸多挑战，从原料的纯度控制到合成工艺的优化，每一步都关乎最终产品的质量。例如，在化学气相沉积法制备碳化硅单晶时，需要调控反应气体的流量、温度、压力等参数，稍有偏差就可能导致晶体缺陷，影响其性能发挥。科研人员从未停止探索的脚步，他们不断尝试新的制备方法，挖掘碳化硅更多潜在性能。从传统的粉末冶金到前沿的液相合成，从单一的碳化硅材料到多元复合体系，每一次都为碳化硅产业注入新的活力。随着5G通信、新能源汽车、航天技术等领域的蓬勃发展，对高温高...

Al2O3-SiC-C浇注料因具有良好的抗侵蚀性和抗热震性等优点，是当今国内外高炉出铁沟工作衬的普遍选择。Al2O3-SiC-C浇注料的使用寿命主要取决于所采用原料的种类、性能和结构。Al2O3-SiC-C浇注料主要是由氧化铝、碳化硅和碳组成。Al2O3-SiC-C浇注料优异的性能主要来自于碳化硅和碳，其中碳具有不易被高温熔渣润湿、低膨胀和高导热等优良特点。所以，碳的引入可以明显提高浇注料的热震稳定性和抗侵蚀性。在Al2O3-SiC-C浇注料中，基质碳可以与单质硅反应，生成具有高强度的碳化硅晶须，但含碳耐火材料有一个致命的弱点——碳易被氧化，降低了浇注料的抗热震性和耐腐蚀性，导致出铁沟浇注料剥落并降低高炉出铁沟的使用寿命。由此可见，Al2O3-SiC-C浇注料中碳氧化的问题对材料的性能有很大的影响。固相烧结碳化硅晶界较为“干净”，高温强度并不随温度的升高而变化，一般在温度达1600℃强度不发生变化。固相烧结碳化硅主要缺点是需较高的烧结温度(2000℃)，对原材料的纯度要求高，烧结体断裂韧性较低，有较强的裂...

2cm厚度的碳化硅晶锭，现有技术完全切开也需要至少100小时左右，相当费时间。锯切效率高，但是破片率高，线切效果稍好，但是效率很低。切磨抛设备日本高鸟，永安有不少新设备上线，从业内反馈效果还行，但是日本公司都有个通病，不太愿意大规模扩产，因此这些设备谁买到谁就能先把产能扩出来。英飞凌曾经花了1.24亿欧元收购一家做碳化硅冷切割（coldspitl）技术的公司Silecrta，以希望用冷切割技术，低成本得到多的碳化硅晶片。有人说这是激光切割技术，作者研究后发现应该不是激光切割，而是类似离子注入法和做SOI硅片的技术比较接近的剥离技术。碳化硅透光率很高，激光切并不合适，而且激光切割设备相当昂贵，当然离子注入法剥离也不简单，现阶段现实的还是线切。切割良率就真正考验各家水准了，同样3cm晶锭厚度，终得片率是30片还是33片还是35片？每多一片都是利润！对于磨抛而言，也有不少技术难点还未完全，但是要比切略简单，无非是慢一点。由于碳化硅硬度和蓝宝石比较接近，因此蓝宝石的粗抛设备以及SLurry配方略经改良，是可以用的...

衬底片完了之后就是长外延，外延之后就是一系列的光刻，刻蚀，涂胶，沉积，清洗，离子注入等工艺，和硅工艺基本一致，然后就是后道的晶圆切die，封装测试等，基本流程和硅差不多。其中长外延，光刻胶，背面退火，刻蚀，以及氧化栅极工艺区别，欧姆接触和硅工艺区别非常大。硅的外延工艺就是普通的硅外延炉之类价格也很便宜国产的大约400-500万一台（8英寸的）；碳化硅的是特殊的MOCVD/HT-CVD，且价格非常贵，基本要800-1500万人民币一台，而且产能很低，一台炉子一个月产能是30片。外延炉主要是国外的爱思强，意大利的LPE（被ASM收购），日本的TEL，Nuflare。国内有不少公司干这个，类似北方华创，中微，以及一些小公司。PVT法的长的碳化硅晶体天然是N型，没有P型，但是做外延层就可以调节N还是P，以及掺杂浓度（至少硅的外延层就是这样的）。之所以要做外延层，道理也很简单，消除衬底本身的缺陷问题，提高器件良率，其次是根据不同工艺，需要做不同外延掺杂工艺。那么对于碳化硅而言，外延之后，能明显提高良率。外延片质量和...