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nm线宽电子束光刻系统-欣源科技（北京）有限公司
==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一 ...
时间：2021-01-03
超高分辨率电子束光刻曝光机_诚信经营仪器仪表-欣源科技（北京）有限公司
包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询!技术参数：1.小线宽：小于10nm（可实现8nm)2。加速电压：5-50kV3！电子束直径：小于2nm4!套刻精度：20nm ...
时间：2021-01-03
CABL-9000C电子束曝光系统_EBL仪器仪表直写-欣源科技（北京）有限公司
包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询!技术参数：1。小线宽：小于10nm（可实现8nm)2。加速电压：5-50kV3!电子束直径：小于2nm4.套刻精度：20nm ...
时间：2021-01-03
日本电子束光刻机_EBL仪器仪表曝光-欣源科技（北京）有限公司
电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子 ...
时间：2021-01-03
高拼接套刻精度电子束_物有所值仪器仪表-欣源科技（北京）有限公司
型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB.其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm，小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean2σ)，拼接精度20nm(mean2σ)！欣源科技SYNERC ...
时间：2021-01-03
CRESTEC电子束光刻_仪器仪表-欣源科技（北京）有限公司
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时间：2021-01-03
电子束_高拼接套刻精度仪器仪表曝光-欣源科技（北京）有限公司
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超高分辨率电子束直写_超高分辨率仪器仪表曝光-欣源科技（北京）有限公司
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时间：2021-01-03
EBL电子束_EBL仪器仪表-欣源科技（北京）有限公司
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时间：2021-01-03
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