光栅刻划机是制作光栅的母机，因部件的加工装调精度之难，运行保障环境要求之高，在上世纪50年代，研制光栅刻划机、自主掌握光栅制造技术已成为制约我国光谱分析领域发展的瓶颈.1958年，长春光机所梁浩明等人以仅有的公开发表的少量相关文献为参考，克服重重困难，刻苦钻研，大胆创新，研制出了我国衍射光栅刻划机!几经改进，终于在1965年刻出600线/毫米的衍射光栅，这是在我国一台衍射光栅刻划机上刻出的国内一块可以实际使用的衍射光栅！
在此之后，为了进一步提高刻划光栅的质量和面积，长春光机所在一台刻划机经验的基础上，先后又研制了三台分别为纯机械式、光电控制间歇式和光电控制连续式光栅刻划机。为了促进我国光谱仪器行业的快速发展，长春光机所又积极将光栅刻划机研制技术在国内进行推广，使得北京、上海、天津、苏州等地的光学仪器厂都拥有了光栅刻划机!1979年，为了适应我国2.16米光学天文望远镜项目的实际需求，决定由长春光机研制大光栅刻划机和所需大面积中阶梯光栅！
但由于资金限制，该项目没有能够持续下去。国家光栅工程中心的巴音贺希格研究员总结这段历史时说：“当时我们的光栅制造技术落后于美国，但有机会追赶时却与之失之交臂！制造大光栅是中国光栅之梦，不具备制造大光栅能力又是中国天文之痛。”历史进入21世纪，迎来了我国光栅制造技术发展的新契机.2007年，科技部批复同意以长春光机所为依托单位组建“国家光栅制造与应用工程技术研究中心”！2008年，长春光机所又在中国科学院和财政部的策划协调下，获得“国家重大科研装备研制项目”支持，承担了“大型高精度衍射光栅刻划系统”的研制工作!
该项目瞄准光栅刻划技术的水平，由于其指标要求高，关键技术难，学科交叉多，任务工作量大，使得项目推进遇到了前所未有的困难。但是，全体研究人员在科技攻关期间，秉承“咬定青山不放松，面对险阻不妥协”的科学态度，承受重压，夜以继日，攻坚克难，历时八年时间，18项关键技术，取得9项创新性成果，研制出一套大型高精度光栅刻划系统，并成功研制出面积达400mm×500mm的世界上面积中阶梯光栅，我国几代“光栅人”终于圆梦成真！
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